兩側光接入增益芯片可用（yòng）於允許功（gōng）率（lǜ）直接從增益（yì）芯片麵耦合輸出以減少光損耗的方案或用（yòng）於放（fàng）大的光方案（àn）。

A 型增（zēng）益芯片具有垂直於刻（kè）麵的直條紋，具有高反射 (HR) 和深層抗（kàng）反射 (AR) 塗層。這是（shì）構建外腔二極管激光器的最具成本效益的解決方案。 A 型 GC 具有對（duì）稱光束遠場，使用高 NA 非球（qiú）麵透鏡提供與外（wài）腔和背麵的有效耦合（hé）。與（yǔ）其他類型（xíng）相比，這種類型的增益芯片具有相對較低的增益譜紋波抑製。這是因為 AR 塗層刻麵的反射率在 0.1% 水（shuǐ）平，並且可（kě）以通過僅使用彎曲的（de）條紋對麵設計進一步降低。

B 型 GC 具有彎曲條紋，正常側為 HR-，傾斜的一側為深 AR 塗層。彎曲的條紋與深增透（tòu）膜一起提供極低的反射（< 10E-5），從（cóng）而可以抑製自激射並最大限度地減少增益波動。彎曲條紋（wén）的（de）缺點是輸出光束的失真（zhēn），這使（shǐ）準直變得尷（gān）尬並降（jiàng）低了後向（xiàng）耦合的效率。必須使用高 NA 光學器件。

C 型 GC 在傾斜側具有彎曲條紋和深增透膜，在正常側具有（yǒu）百分之幾的（de）反射。波長選擇反饋必須放置在傾斜側（具有與 B 型相同的優點和缺點），而輸出功率（lǜ）從正常（cháng）側輸出。這種設（shè）計（jì）允許高輸出功率和相對較好（hǎo）的輸出光束。具有正常條紋的刻麵反射必須根據（jù）係統的配置和所需的輸出功率單（dān）獨設計。

D 型 GC 有一條傾斜的條紋，兩邊都有深 AR，通常用於需要內置放大單元的高級光學方案。包括刻麵鈍化在（zài）內的創新刻麵塗層（céng）技術可滿（mǎn）足高可（kě）靠性要求。符合 ISO9001:2008 標準的生產（chǎn）基於仔細的（de）設計、製造和廣泛的測試。每個設備都經過單獨（dú）測試，並附帶一組指定的（de）測試數據。